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致力于做微弧氧化的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者......
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0519-86339396

核心技術(shù)

Core Technology: Micro-Arc Oxidation (MAO)

在性能上與其他技術(shù)的比較

微弧氧化與陽(yáng)極氧化技術(shù)比較

微弧氧化 陽(yáng)極氧化
電壓與電流 高電壓、大電流 低電壓、小電流
成膜速率 快(1~2μm/min)
工作溫度 常溫 低溫(<5℃)
溶液性質(zhì) 堿性(環(huán)境友好型) 酸性
處理工序 脫脂→微弧氧化 脫脂→堿洗→酸洗→陽(yáng)極氧化→封孔
氧化類型 化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、電漿高溫氧化 化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化
氧化膜微結(jié)構(gòu) 高溫結(jié)晶態(tài)氧化物 非晶性
膜層硬度 高(Hv1500) 低(Hv600 max)
耐磨性能 極佳
膜層韌性 韌性佳 較脆
價(jià)格
色彩多樣性 很大限制 可染色,選擇性較多
耐火性 極佳
耐擊穿電壓性 極佳 一般
UV耐受性 極佳 會(huì)褪色
合金可處理性(合金成分與成型條件) 寬(各系列合金) 窄(無(wú)法處理2000系列、高含鋅鋁合金與壓鑄件)
膜結(jié)構(gòu) 內(nèi)致密,外多孔 柱狀多孔層和極薄的致密層(需封孔)
耐蝕性/耐熱性
耐疲勞強(qiáng)度 非常差
可繞性 非常差

微弧氧化和電漿噴涂的比較

微弧氧化 電漿噴涂
電壓與電流 高電壓、大電流 低電壓、大電流
成膜速率 快(1~2μm/min) 可以非???/td>
工作溫度 常溫 視噴涂材料熔點(diǎn)而定,如果是陶瓷則溫度非常高,常會(huì)造成基材變形
基材限制 僅可以在閥金屬上(如鋁合金、鈦合金或鎂合金等) 限制?。ㄋ芰?、金屬、陶瓷、復(fù)合材料皆可)
形狀限制 無(wú)限制 因light-of-sight制程,僅運(yùn)用于平面或者曲面,對(duì)于形狀復(fù)雜(如內(nèi)孔,表面曲折等)無(wú)法施工
膜結(jié)構(gòu) 內(nèi)致密,外多孔 均勻,液滴飛濺凝固堆疊
鍍膜成分 僅為陶瓷 可金屬、可陶瓷
附著性 冶金級(jí)介面,附著性極強(qiáng) 介面為機(jī)械咬合,附著性佳
耐磨性 極佳
可繞性
環(huán)保 堿性(環(huán)境友善性) 噪音(>100dB),強(qiáng)紫外線和紅外線
適合厚度 5μm~50μm 5μm~2mm
價(jià)格

微弧氧化和化學(xué)鎳的比較

微弧氧化 化學(xué)鎳
覆蓋性 優(yōu)
硬度 高(Hv1500) 低(Hv400~500)
附著性 冶金級(jí)介面,附著性極強(qiáng) 介面為機(jī)械咬合,附著性佳
導(dǎo)電性 不導(dǎo)電 導(dǎo)電
抗蝕性 極佳 視狀況而定,再現(xiàn)性較差
基材限制 僅可以在閥金屬上(如鋁合金、鈦合金或鎂合金等) 限制小(塑料、金屬、陶瓷、復(fù)合材料皆可)
環(huán)保 環(huán)保 不環(huán)保

微弧氧化和硬絡(luò)處理的比較

微弧氧化 硬絡(luò)處理
覆蓋性
硬度 高(Hv1500) 高(Hv800~1000)
附著性 冶金級(jí)介面,附著性極強(qiáng) 介面為機(jī)械咬合,附著性佳
導(dǎo)電性 不導(dǎo)電 導(dǎo)電
抗蝕性 極佳
可繞性
基材限制 僅可以在閥金屬上(如鋁合金、鈦合金或鎂合金等) 限制(部分結(jié)構(gòu)金屬材料皆可)
環(huán)保 環(huán)保 極不環(huán)保
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